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真空鍍膜設備
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常規配置 ► 真空泵係統 低真空泵:旋片式機械泵(蒸壓機械泵:930m3 h-1) 高真空泵:擴散泵(選擇:低溫泵或滑輪分子泵) ► 真空閥係統 型號:3/8”,2”,4”,22“ ► 真空室加熱係統 高溫度:0到400℃ 型號:滷素燈(選擇:微型加熱器) 基片型號:球麵型或行星型 轉速:0到30轉速/分 軟起,軟停,可調速瀘 ► 電子控製係統 型號:計算機控製麵板 可修改和改變任何需要的控製 全程控製鍍膜以達到產品所需的要求 提供所需要的技術信息 ► 真空計係統 高真空感應器:2 低真空感應器:1 |
選擇配置 ► 薄膜沉積控製係統 沉積控製:IC-5 (INFICON) MDC360 (MAXTEK)等等 石英晶髓感應器:1,2,6頭 ► 光控離子源 無柵型:直流型 燈絲型:直流型,頻射型 ► 電子束源 容量:15cc,25cc,40cc等等 偏轉角度:180度或270度 坩鍋:4,6,8倜等等 ► 深冷係統 除霜室 擴散泵 ► 水冷卻係統 水或氣冷卻器 |